Verfahren zum Betreiben eines optischen Systems, sowie Spiegel und optisches System

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Betreiben eines optischen Systems, sowie einen Spiegel und ein optisches System, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage. Gemäß einem Aspekt wird bei einem Verfahren zum Betreiben eines optischen Systems, wobei das optische Sys...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Gellrich, Bernhard, Gruner, Toralf, Enkisch, Hartmut
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR BLASTING CINEMATOGRAPHY COLD ROOMS COLORIMETRY COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS CONTROLLING COOLING OR FREEZING APPARATUS NOT COVERED BY ANY OTHERSUBCLASS ELECTROGRAPHY HEAT PUMP SYSTEMS HEATING HOLOGRAPHY ICE-BOXES LIGHTING LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE MATERIALS THEREFOR MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT,POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRA-RED,VISIBLE OR ULTRA-VIOLET LIGHT MEASURING MECHANICAL ENGINEERING OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS RADIATION PYROMETRY REFRIGERATION OR COOLING REFRIGERATORS REGULATING SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES TESTING TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES ORSTRUCTURES TESTING STRUCTURES OR APPARATUS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR WEAPONS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Betreiben eines optischen Systems, sowie einen Spiegel und ein optisches System, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage. Gemäß einem Aspekt wird bei einem Verfahren zum Betreiben eines optischen Systems, wobei das optische System wenigstens einen Spiegel mit einer optischen Wirkfläche und einem Spiegelsubstrat aufweist, wobei in dem Spiegelsubstrat wenigstens ein Kühlkanal angeordnet ist, der Kühlkanal von einem Kühlfluid mit variabler Kühlfluidtemperatur und variablem Kühlfluiddruck zur Aufnahme von Wärme durchströmt, die in dem Spiegelsubstrat durch auf die optische Wirkfläche auftreffende, von einer Lichtquelle erzeugte elektromagnetische Strahlung generiert wird, wobei Kühlfluidtemperatur und Kühlfluiddruck in Abhängigkeit von der Quellleistung variiert werden, und wobei diese Variation derart erfolgt, dass sich ein erster parasitärer Beitrag zur Deformation der optischen Wirkfläche, welcher durch einen vom Kühlfluid in dem Spiegelsubstrat erzeugten Temperaturgradienten bewirkt wird, und ein zweiter parasitärer Beitrag zur Deformation der optischen Wirkfläche, welcher durch einen vom Kühlfluid auf das Spiegelsubstrat übertragenen mechanischen Druck bewirkt wird, einander wenigstens teilweise kompensieren. A mirror, such as for a microlithographic projection exposure apparatus, comprises an optical effective surface. The mirror comprises a mirror substrate and a plurality of cavities in the mirror substrate. Fluid can be applied to each cavity. A deformation is transferable to the optical effective surface by varying the fluid pressure in the cavities. Related optical systems methods are provided.