Verfahren zum Bilden einer Schicht, optisches Element und optisches System

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Bilden mindestens einer Schicht (3) auf einem Substrat (2), umfassend: Abscheiden mindestens eines Beschichtungsmaterials (9) auf dem Substrat (2) zum Bilden der Schicht (3), sowie Erzeugen eines Plasmas (12) zur Unterstützung des Abscheidens des Beschichtungsmaterials (9). Das Plasma (12) wird aus einer Gasmischung (14) gebildet, die ein erstes Gas (G) und ein zweites Gas (H) enthält, wobei das zweite Gas (H) eine Ionisierungsenergie aufweist, die kleiner ist als eine Ionisierungsenergie des ersten Gases (G). Die Erfindung betrifft auch ein optisches Element, umfassend: ein Substrat (2), bevorzugt aus einem fluoridischen Material, insbesondere aus einem Metallfluorid, wobei das Substrat (2) eine Beschichtung aufweist, die mindestens eine Schicht (3) umfasst, die gemäß weiter oben beschriebenen Verfahren gebildet wurde. Die Erfindung betrifft auch ein optisches System, insbesondere für den DUV-Wellenlängenbereich, das mindestens ein solches optisches Element aufweist. A method of forming a layer (3) on a substrate (2) made of a fluoridic material includes: depositing a coating material (9) on the substrate to form the layer and generating a plasma (12) to assist the deposition of the coating material. The plasma is formed from a gas mixture (14) containing a first gas (G) and a second gas (H), wherein the second gas has an ionization energy less than an ionization energy of the first gas, the first gas is a noble gas and the second gas is a further noble gas. An associated optical element includes: a substrate (2) composed of a fluoridic material, in particular a metal fluoride, wherein the substrate has a coating (18) having a layer (3) formed by the above method. An associated optical system, in particular for the DUV wavelength range, includes at least one such optical element.