Gasversorgungsstruktur und Prozessiervorrichtung

Gasversorgungsstruktur (351), aufweisend: einen Prozessschild (402), welcher einen fluiddurchlässigen Abschnitt (352) aufweist; eine Gasversorgungsvorrichtung (156), welche mittels eines Spalts (356) räumlich von dem Prozessschild (402) separiert ist und zumindest einen Gasauslass (156d) zum Versorg...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Schneider, Klaus, Aulhorn, Stephan, Hauswald, Ralf
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Gasversorgungsstruktur (351), aufweisend: einen Prozessschild (402), welcher einen fluiddurchlässigen Abschnitt (352) aufweist; eine Gasversorgungsvorrichtung (156), welche mittels eines Spalts (356) räumlich von dem Prozessschild (402) separiert ist und zumindest einen Gasauslass (156d) zum Versorgen des Abschnitts (352) mit Gas aufweist; wobei der Spalt (356) den zumindest einen Gasauslass (156d) und den Abschnitt (352) fluidleitend miteinander koppelt; eine federelastische Gasführungsstruktur (358), welche an den Spalt (356) angrenzt und den Prozessschild (402) sowie die Gasversorgungsvorrichtung (156) berührt.