Verfahren zur Entfernung eines Partikels von einer Fotomaske

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Entfernung eines Partikels (2) von einer Fotomaske (1) umfassend folgende Verfahrensschritte:- Eintauchen der Fotomaske (1) in eine Flüssigkeit (5),- Bereitstellung einer Gas-Flüssigkeitsschnittstelle (10),- Erzeugung eines Blasenstrahlstroms (9) durch einen...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Oshemkov, Sergey, Blumrich, Jörg Frederik, Wei, Shao-Chi, Scherübl, Thomas, Völcker, Martin
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR BASIC ELECTRIC ELEMENTS CINEMATOGRAPHY ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS SEMICONDUCTOR DEVICES
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Entfernung eines Partikels (2) von einer Fotomaske (1) umfassend folgende Verfahrensschritte:- Eintauchen der Fotomaske (1) in eine Flüssigkeit (5),- Bereitstellung einer Gas-Flüssigkeitsschnittstelle (10),- Erzeugung eines Blasenstrahlstroms (9) durch einen Laserstrahl (7) in der Umgebung der Gas-Flüssigkeitsschnittstelle (10),- Richten des Blasenstrahlstroms (9) auf den Partikel (2) zur Entfernung des Partikels (2).