Verfahren sowie Vorrichtung zum Bestimmen des Erwärmungszustandes eines optischen Elements in einem optischen System

Die Erfindung betrifft ein Verfahren sowie eine Vorrichtung zum Bestimmen des Erwärmungszustandes eines optischen Elements in einem optischen System, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, wobei im Betrieb des optischen Systems elektromagnetische Strahlung auf eine...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Mack, Rüdiger, Schurer, Johannes, Schneider, Eva, Lorenz, Maike, Mitev, Vladimir
Format: Patent
Sprache:ger
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Beschreibung
Zusammenfassung:Die Erfindung betrifft ein Verfahren sowie eine Vorrichtung zum Bestimmen des Erwärmungszustandes eines optischen Elements in einem optischen System, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, wobei im Betrieb des optischen Systems elektromagnetische Strahlung auf eine Auftrefffläche (401) des optischen Elements (400) auftrifft, wobei eine an der Auftrefffläche vorhandene mittlere Temperatur auf Basis einer mit wenigstens einem entfernt von der Auftrefffläche (401) angeordneten Temperatursensor (420) durchgeführten Temperaturmessung unter Verwendung eines Kalibrierungsparameters abgeschätzt wird, und wobei dieser Kalibrierungsparameter in Abhängigkeit von dem im optischen System eingestellten Beleuchtungssetting unterschiedlich gewählt wird. A method and a device determine the heating state of an optical element in an optical system, for example in a microlithographic projection exposure system. Electromagnetic radiation hits an incidence surface of the optical element during operation of the optical system. Using a calibration parameter, an average temperature at the incidence surface is estimated on the basis of a temperature measurement carried out via at least one temperature sensor located a distance from the incidence surface. The calibration parameter is selected differently in accordance with the illumination setting which is set in the optical system.