WASSERFÜHRENDES SYSTEM UND LITHOGRAPHIEANLAGE

Ein wasserführendes System (200), insbesondere ein Kühlsystem, für eine Lithographieanlage (100A, 100B), aufweisend einen Kühler (202), welcher eine Flanschfläche (214) umfasst, eine Leitung (216) zum Zuführen von Kühlwasser (206) zu dem Kühler (202) oder zum Abführen von Kühlwasser (206) von dem Kü...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Pröll, Alexander, Biehler, Jasmin, Müller, Christoph
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR BLASTING CINEMATOGRAPHY CYLINDERS ELECTROGRAPHY ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVEFUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS HEATING HOLOGRAPHY JOINTS OR FITTINGS FOR PIPES LIGHTING MATERIALS THEREFOR MEANS FOR THERMAL INSULATION IN GENERAL MECHANICAL ENGINEERING OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS PIPES PISTONS SEALINGS SUPPORTS FOR PIPES, CABLES OR PROTECTIVE TUBING THERMAL INSULATION IN GENERAL WEAPONS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Ein wasserführendes System (200), insbesondere ein Kühlsystem, für eine Lithographieanlage (100A, 100B), aufweisend einen Kühler (202), welcher eine Flanschfläche (214) umfasst, eine Leitung (216) zum Zuführen von Kühlwasser (206) zu dem Kühler (202) oder zum Abführen von Kühlwasser (206) von dem Kühler (202), wobei die Leitung (216) einen Flanschabschnitt (220) aufweist, welcher an der Flanschfläche (214) anliegt, und eine Dichtungsvorrichtung (300A, 300B), welche zumindest abschnittsweise in dem Kühler (202) aufgenommen ist und welche sowohl einer Axialrichtung (A) axial verpresst als auch entlang einer Radialrichtung (R) radial verpresst ist.