Vorrichtung zum Befüllen einer Dampfzelleneinrichtung mit einem Gas, Verfahren zum Herstellen einer mit einem Gas befüllten Dampfzelleneinrichtung, und Dampfzelleneinrichtung
Die vorliegende Erfindung schafft eine Vorrichtung (10) zum Befüllen einer Dampfzelleneinrichtung (1) mit einem Gas, umfassend ein Gasverteilungssubstrat (2), welches zumindest einen Gasverteilungskanal (2a) umfasst, ein Gasreservoir (8), welches an den Gaseinlass (3) anschließbar ist; und eine Pump...
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| Format: | Patent |
| Sprache: | ger |
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| creator | Fuchs, Tino Frey, Peter Riedrich-Moeller, Janine Ametowobla, Mawuli Brenneis, Andreas Menold, Tobias Joachim Roelver, Robert |
| description | Die vorliegende Erfindung schafft eine Vorrichtung (10) zum Befüllen einer Dampfzelleneinrichtung (1) mit einem Gas, umfassend ein Gasverteilungssubstrat (2), welches zumindest einen Gasverteilungskanal (2a) umfasst, ein Gasreservoir (8), welches an den Gaseinlass (3) anschließbar ist; und eine Pumpeinrichtung (PE), welche dazu eingerichtet ist, um das Gas in den Gasverteilungskanal (2a) hineinzupumpen und herauszupumpen und wieder in dem Gasreservoir (8) zu speichern; und eine Abdichteinrichtung (AE), welche zwischen der Dampfzelleneinrichtung (1) und dem Gasverteilungssubstrat (2) anbringbar ist und mittels welcher ein abgedichteter Zwischenraum (ZR) zwischen dem Gasverteilungssubstrat (2) und der Dampfzelleneinrichtung (1) erzeugbar ist, durch welchen das Gas von dem Individualgasauslass (4) in die Dampfzelleneinrichtung (1) einleitbar ist. |
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Roelver, Robert</creator><creatorcontrib>Fuchs, Tino ; Frey, Peter ; Riedrich-Moeller, Janine ; Ametowobla, Mawuli ; Brenneis, Andreas ; Menold, Tobias Joachim ; Roelver, Robert</creatorcontrib><description>Die vorliegende Erfindung schafft eine Vorrichtung (10) zum Befüllen einer Dampfzelleneinrichtung (1) mit einem Gas, umfassend ein Gasverteilungssubstrat (2), welches zumindest einen Gasverteilungskanal (2a) umfasst, ein Gasreservoir (8), welches an den Gaseinlass (3) anschließbar ist; und eine Pumpeinrichtung (PE), welche dazu eingerichtet ist, um das Gas in den Gasverteilungskanal (2a) hineinzupumpen und herauszupumpen und wieder in dem Gasreservoir (8) zu speichern; und eine Abdichteinrichtung (AE), welche zwischen der Dampfzelleneinrichtung (1) und dem Gasverteilungssubstrat (2) anbringbar ist und mittels welcher ein abgedichteter Zwischenraum (ZR) zwischen dem Gasverteilungssubstrat (2) und der Dampfzelleneinrichtung (1) erzeugbar ist, durch welchen das Gas von dem Individualgasauslass (4) in die Dampfzelleneinrichtung (1) einleitbar ist.</description><language>ger</language><subject>CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING ; 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und eine Pumpeinrichtung (PE), welche dazu eingerichtet ist, um das Gas in den Gasverteilungskanal (2a) hineinzupumpen und herauszupumpen und wieder in dem Gasreservoir (8) zu speichern; und eine Abdichteinrichtung (AE), welche zwischen der Dampfzelleneinrichtung (1) und dem Gasverteilungssubstrat (2) anbringbar ist und mittels welcher ein abgedichteter Zwischenraum (ZR) zwischen dem Gasverteilungssubstrat (2) und der Dampfzelleneinrichtung (1) erzeugbar ist, durch welchen das Gas von dem Individualgasauslass (4) in die Dampfzelleneinrichtung (1) einleitbar ist.</description><subject>CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING</subject><subject>CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING</subject><subject>GYROSCOPIC INSTRUMENTS</subject><subject>MACHINE TOOLS</subject><subject>MEASURING</subject><subject>MEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS</subject><subject>METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</subject><subject>MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICALDEVICES</subject><subject>MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY</subject><subject>NAVIGATION</subject><subject>PERFORMING OPERATIONS</subject><subject>PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY</subject><subject>PHYSICS</subject><subject>SOLDERING OR UNSOLDERING</subject><subject>SURVEYING</subject><subject>TESTING</subject><subject>TRANSPORTING</subject><subject>WELDING</subject><subject>WORKING BY LASER BEAM</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2021</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZNgQll9UlJmcUVKal65QVZqr4JSadnhPTk5qnkJqZl5qkYJLYm5BWlUqSAQoAFeam1kCVpCr4J5YrKMQllqUlphRBNQFMsMjtai4JBXJEBTVCkkQK0qA0thN11EozUvBIcfDwJqWmFOcyguluRlU3VxDnD10Uwvy41OLCxKTgcpL4l1cDQ2MwNDMwNjQ0dCYWHUA3rhfIA</recordid><startdate>20211118</startdate><enddate>20211118</enddate><creator>Fuchs, Tino</creator><creator>Frey, Peter</creator><creator>Riedrich-Moeller, Janine</creator><creator>Ametowobla, Mawuli</creator><creator>Brenneis, Andreas</creator><creator>Menold, Tobias Joachim</creator><creator>Roelver, Robert</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20211118</creationdate><title>Vorrichtung zum Befüllen einer Dampfzelleneinrichtung mit einem Gas, Verfahren zum Herstellen einer mit einem Gas befüllten Dampfzelleneinrichtung, und Dampfzelleneinrichtung</title><author>Fuchs, Tino ; 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und eine Pumpeinrichtung (PE), welche dazu eingerichtet ist, um das Gas in den Gasverteilungskanal (2a) hineinzupumpen und herauszupumpen und wieder in dem Gasreservoir (8) zu speichern; und eine Abdichteinrichtung (AE), welche zwischen der Dampfzelleneinrichtung (1) und dem Gasverteilungssubstrat (2) anbringbar ist und mittels welcher ein abgedichteter Zwischenraum (ZR) zwischen dem Gasverteilungssubstrat (2) und der Dampfzelleneinrichtung (1) erzeugbar ist, durch welchen das Gas von dem Individualgasauslass (4) in die Dampfzelleneinrichtung (1) einleitbar ist.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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