Vorrichtung zur Reinigung einer Plasma-Strahlungsquelle

Eine Vorrichtung (33) zur Reinigung einer Plasma-Strahlungsquelle (21) in einem Strahlungsquellenmodul einer Projektionsbelichtungsanlage (13) weist eine Laser-Strahlungsquelle (31) zur Erzeugung eines Bearbeitungsstrahls (38) und einen Endeffektor (32) zur gezielten Führung des Bearbeitungsstrahls...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Bischoff, Thomas, Pütsch, Oliver, Prümmer, Ralf, König, Georg, Roos, Matthias, Hasbun Wood, Juan Jose, Hagg, Michael, Gondek, Christoph, Grupp, Ariane, Johnigk, Carsten
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING CLEANING CLEANING IN GENERAL CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MACHINE TOOLS MATERIALS THEREFOR METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ORIGINALS THEREFOR PERFORMING OPERATIONS PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS PREVENTION OF FOULING IN GENERAL SOLDERING OR UNSOLDERING TRANSPORTING WELDING WORKING BY LASER BEAM
Online-Zugang:	Volltext bestellen
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Beschreibung
Zusammenfassung:	Eine Vorrichtung (33) zur Reinigung einer Plasma-Strahlungsquelle (21) in einem Strahlungsquellenmodul einer Projektionsbelichtungsanlage (13) weist eine Laser-Strahlungsquelle (31) zur Erzeugung eines Bearbeitungsstrahls (38) und einen Endeffektor (32) zur gezielten Führung des Bearbeitungsstrahls (38) innerhalb des Strahlungsquellenmoduls auf, wobei der Endeffektor (32) mindestens einen Spiegel (54) aufweist, welcher einerseits um eine senkrecht zu einer Spiegel-Normalen (55) verlaufenden Kippachse (56) verkippbar, andererseits um eine senkrecht zur Kippachse (56) verlaufende Rotationsachse (7) rotierbar ist.