Vorrichtung zum Reinigen von topfförmigen Hohlkörpern, insbesondere von Transportbehältern für Halbleiterwafer oder für EUV-Lithografie-Masken

Vorrichtung (10) zum Reinigen von topfförmigen Hohlkörpern (12), insbesondere von Transportbehältern (30) für Halbleiterwafer oder für EUV-Lithografie-Masken, wobei der Hohlkörper (12)- eine Bodenwand (32) und eine oder mehrere Seitenwände (34), die eine Hohlkörperinnenfläche (33) bilden, und- eine...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Haas, Gunter, Gutekunst, Jürgen, Schienle, Frank
Format: Patent
Sprache:ger
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Beschreibung
Zusammenfassung:Vorrichtung (10) zum Reinigen von topfförmigen Hohlkörpern (12), insbesondere von Transportbehältern (30) für Halbleiterwafer oder für EUV-Lithografie-Masken, wobei der Hohlkörper (12)- eine Bodenwand (32) und eine oder mehrere Seitenwände (34), die eine Hohlkörperinnenfläche (33) bilden, und- eine der Bodenwand (32) gegenüberliegende Öffnung (36), die von einer Randfläche (38) der Seitenwand (34) umschlossen wird, umfasst, wobei die Vorrichtung (10)- eine Auflagewand (20), auf welche der Hohlkörper (12) mit der Randfläche (38) aufgelegt werden kann,- eine Verriegelungseinrichtung (26), mit welcher der Hohlkörper (12) mit der Randfläche (38) dichtend und lösbar mit der Auflagewand (20) verbindbar ist,- zumindest eine von der Auflagewand (20) gebildete Durchgangsöffnung (24), die radial innerhalb der Verriegelungseinrichtung (26) angeordnet ist,- eine Reinigungseinrichtung (40), mit welcher ein erstes Reinigungsfluid zum Reinigen der Hohlkörperinnenfläche (33) abgegeben werden kann, wenn der Hohlkörper (12) mit der Auflagewand (20) verbunden ist, und- einen ersten Abführkanal (70) mit einem ersten Ende (72) umfasst, wobei der erste Abführkanal (70) mit dem ersten Ende (72) ausschließlich mit der Durchgangsöffnung (24) in Fluidkommunikation steht und mit welchem das von der Reinigungseinrichtung (40) abgegebene erste Reinigungsfluid abgeführt werden kann, dadurch gekennzeichnet, dass in der Auflagewand (20) ein erster Kanal (41) angeordnet ist, mit welchem ein Spülungsfluid zur Randfläche (38) geführt werden kann. An apparatus for cleaning pot-shaped hollow bodies, in particular transport containers for semiconductor wafers or for EUV lithography masks includes a support wall onto which the hollow body can be placed by way of its edge surface, a locking device by means of which the hollow body can be sealingly and releasably connected to the support wall, a passage opening which is formed by the support wall and is arranged radially within the locking device, a cleaning device by means of which a first cleaning fluid can by dispensed for cleaning the hollow body inner surface when the hollow body is connected to the support wall and a first discharge channel with a first end. The first discharge channel is in fluidic communication with the passage opening and with which the first cleaning fluid dispensed by the cleaning device can be discharged.