GERÄT MIT FOKUSSIERTEM IONENSTRAHL UND STEUERVERFAHREN FÜR GERÄT MIT FOKUSSIERTEM IONENSTRAHL

Bereitgestellt werden ein Gerät mit fokussiertem Ionenstrahl, ein Verbundgerät mit fokussiertem Ionenstrahl und ein Steuerverfahren für ein Gerät mit fokussiertem Ionenstrahl, mit welchen es möglich ist, einen Strahl zu steuern, um eine gewünschte Bewegungsbahn aufzuweisen. The focused ion beam appa...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Sugiyama, Yasuhiko, Hirose, Naoko
Format: Patent
Sprache:ger
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Beschreibung
Zusammenfassung:Bereitgestellt werden ein Gerät mit fokussiertem Ionenstrahl, ein Verbundgerät mit fokussiertem Ionenstrahl und ein Steuerverfahren für ein Gerät mit fokussiertem Ionenstrahl, mit welchen es möglich ist, einen Strahl zu steuern, um eine gewünschte Bewegungsbahn aufzuweisen. The focused ion beam apparatus includes: an ion source configured to generate ions; a first electrostatic lens configured to accelerate and focus the ions to form an ion beam; a beam booster electrode configured to accelerate the ion beam to a higher level; one or a plurality of electrodes, which are placed in the beam booster electrode, and are configured to electrostatically deflect the ion beam; a second electrostatic lens, which is provided between the one or plurality of electrodes and a sample table, and is configured to focus the ion beam applied with a voltage; and a processing unit configured to obtain a measurement condition, and set at least one of voltages to be applied to the one or plurality of electrodes or a voltage to be applied to each of the first electrostatic lens and the second electrostatic lens, based on the obtained measurement condition.