Vorrichtung, System und Verfahren zur plasmaunterstützten chemischen Gasphasenabscheidung

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung (1), ein System (50) und ein Verfahren (100) zur plasmaunterstützten chemischen Gasphasenabscheidung. Dabei ist eine Prozesskammer (2) zur Aufnahme wenigstens eines Werkstückträgers (30) eingerichtet. Erfindungsgemäß ist die Vorrichtung (1) dazu ei...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	Fuchs, Jens-Uwe, Tröller, Mirko, Reize, Ralf, Leichtle, Roland
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
Online-Zugang:	Volltext bestellen
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!