Verfahren, Steuervorrichtung und nichtflüchtiger Datenspeicher
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Verfahren (200) zum Einmessen eines reaktiven Beschichtungsprozesses aufweisen: Ermitteln (201) einer ersten Auslenkung des Beschichtungsprozesses aus einem ersten Referenzzustand, welche mittels einer ersten Stellgröße, die den Beschichtungsprozess bee...
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Format: | Patent |
Sprache: | ger |
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Zusammenfassung: | Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Verfahren (200) zum Einmessen eines reaktiven Beschichtungsprozesses aufweisen: Ermitteln (201) einer ersten Auslenkung des Beschichtungsprozesses aus einem ersten Referenzzustand, welche mittels einer ersten Stellgröße, die den Beschichtungsprozess beeinflusst, angeregt wird; Ermitteln (203) einer zweiten Auslenkung des Beschichtungsprozesses aus einem zweiten Referenzzustand, welche mittels der ersten Stellgröße angeregt wird; wobei sich der erste Referenzzustand und der zweite Referenzzustand in einem Zustand einer zweiten Stellgröße, die den Beschichtungsprozess beeinflusst, voneinander unterscheiden; Ermitteln (205), basierend auf der ersten Auslenkung und der zweiten Auslenkung, eines Modells des Beschichtungsprozesses, welches eine Verknüpfung zwischen der ersten Stellgröße und der zweiten Stellgröße implementiert. |
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