Verfahren zur Herstellung eines kontinuierlichen diffraktiven optischen Elementes und kontinuierliches diffraktives optisches Element

Verfahren zum Herstellen eines diffraktiven optischen Elementes (10) zur Strahlenformung eines Laserstrahles mit einer ersten Wellenlänge (λ1) von wenigstens 100 nm umfassend die Schritte:- Bereitstellen eines Laserspiegels (12), wobei der Laserspiegel (12) einen schichtartigen Aufbau aus einem Substrat (14) und einer Dielektrika-Schicht (18) aufweist, wobei die Dielektrika-Schicht (18) an dem Substrat (14) anliegt, oder wobei der Laserspiegel (12) einen schichtartigen Aufbau aus einem Substrat (14), einer Dielektrika-Schicht (18) und einer Absorptionsschicht (16) aufweist, wobei sich die Absorptionsschicht (16) zwischen dem Substrat (14) und der Dielektrika-Schicht (18) befindet,- Erzeugen einer Mehrzahl von Auswölbungen (24) der Dielektrika-Schicht (18), durch Behandeln des Laserspiegels (12) mit einer Serie fokussierter Heizlaserstrahlen (38) mit einer zweiten Wellenlänge (λ2), wobei die Mehrzahl von Auswölbungen (24) eine Höhe (32) senkrecht zur Dielektrika-Schicht (18) aufweisen, und wobei wenigstens eine Auswölbung eine Höhe (32) größer als 50 nm aufweist. In one aspect, a method for producing a diffractive optical element for beam shaping of a laser beam having a first wavelength of at least 100 nm includes providing a laser mirror, the laser mirror having a layered structure made of a substrate, a dielectric layer and optionally an absorption layer, the dielectric layer resting against the substrate or the absorption layer being located between the substrate and the dielectric layer. The method also includes creating a plurality of bulges of the dielectric layer by treating the laser mirror with a series of focused heating laser beams having a second wavelength (λ2), the plurality of bulges having a height perpendicular to the dielectric layer, and at least one bulge having a height of at least half the first wavelength (λ1).