Gestapelte Transistoren mit einem Dielektrikum zwischen den Source/Drain- Materialien unterschiedlicher Strata

Hierin offenbart sind gestapelte Transistoren mit einem Dielektrikum zwischen Source/Drain-Materialien unterschiedlicher Strata sowie verwandte Verfahren und Bauelemente. Bei einigen Ausführungsbeispielen kann eine Integrierte-Schaltung-Struktur gestapelte Strata von Transistoren umfassen, wobei sic...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Jung, Byungki, Sukrittanon, Supanee, Wadhwa, Prashant, Rachmady, Willy, Killampalli, Aravind, Huang, Cheng-Ying, Phan, Anh, Gupta, Jay Prakash, Hsu, Kaiwen, Railsback, Justin, Mannebach, Ehren, Barrett, Caleb Shuan Chia, Gupta, Nishant
Format: Patent
Sprache:ger
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Beschreibung
Zusammenfassung:Hierin offenbart sind gestapelte Transistoren mit einem Dielektrikum zwischen Source/Drain-Materialien unterschiedlicher Strata sowie verwandte Verfahren und Bauelemente. Bei einigen Ausführungsbeispielen kann eine Integrierte-Schaltung-Struktur gestapelte Strata von Transistoren umfassen, wobei sich ein dielektrisches Material zwischen Source/Drain-Materialien benachbarter Strata befindet und das dielektrische Material konform auf einem darunter liegenden Source/Drain-Material ist. Disclosed herein are stacked transistors with dielectric between source/drain materials of different strata, as well as related methods and devices. In some embodiments, an integrated circuit structure may include stacked strata of transistors, wherein a dielectric material is between source/drain materials of adjacent strata, and the dielectric material is conformal on underlying source/drain material.