Optisches System, sowie Heizanordnung und Verfahren zum Heizen eines optischen Elements in einem optischen System

Die Erfindung betrifft ein optisches System, sowie eine Heizanordnung und ein Verfahren zum Heizen eines optischen Elements in einem optischen System. Ein optisches System, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, weist wenigstens ein optisches Element, welches eine optische Wirkfläche aufweist, eine Heizanordnung zum Heizen dieses optischen Elements, welche eine Mehrzahl von IR-Strahlern (101, 102, 103, 104, 401, 402, 403, 404) zur Beaufschlagung der optischen Wirkfläche mit IR-Strahlung aufweist, wobei diese IR-Strahler zur variablen Einstellung unterschiedlicher Heizprofile in dem optischen Element unabhängig voneinander ein- und ausschaltbar sind, und wenigstens eine Strahlformungseinheit (130, 231, 232, 233, 234, 430) zur Strahlungsformung der von den IR-Strahlern auf die optische Wirkfläche gelenkten IR-Strahlung auf. An optical system includes at least one optical element which has an optically effective surface and which is designed for an operating wavelength of less than 30 nm. The optical system also includes a heating arrangement for heating this optical element and comprising a plurality of IR emitters for irradiating the optically effective surface with IR radiation. The IR emitters are activatable and deactivatable independently of each other to variably set different heating profiles in the optical element. The optical system further includes at least one beam shaping unit for shaping the beam of the IR radiation steered onto the optically effective surface by the IR emitters. The optical system also includes a multi-fiber head comprising a multi-fiber connector for connecting optical fibers. IR radiation from a respective one of the IR emitters is suppliable by way of each of these optical fibers.