Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie

Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage (1) für die Halbleiterlithographie mit einer Projektionsoptik (9), die einen Sensorrahmen (30), einen Tragrahmen (40), mit einem Modul (50) mit einem optischen Element (52) und Aktuatoren (53) zur Positionierung und Ausrichtung des optischen E...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	Gellrich, Bernhard, Xalter, Stefan, Hembacher, Stefan, Kugler, Jens, Feygin, Mark
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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