Verfahren zum Ausbilden eines Aluminiumfilms

Verfahren zum Ausbilden, auf einem Substrat (100), eines Aluminiumfilms (113), der aus einem Material besteht, das Aluminium oder eine Aluminiumverbindung ist, wobei das Verfahren umfasst:Ausbilden (S11) eines ersten Films mit einer Dicke, die gleich 0,1 µm oder größer und geringer als 1 µm ist, durch Sputtern des Materials auf das Substrat (100);Wiederaufschmelzen (S12) des ersten Films durch Erhitzen des ersten Films;Ausbilden (S13) eines zweiten Films durch Sputtern des Materials auf den ersten Film (111), der wiederaufgeschmolzen wurde;danach Wiederaufschmelzen (S14) des zweiten Films durch Erhitzen des zweiten Films;Ausbilden (S15) eines dritten Films durch Sputtern des Materials auf den zweiten Film, der wiederaufgeschmolzen wurde; unddanach Wiederaufschmelzen (S16) des dritten Films durch Erhitzen des dritten Films,wobei das Substrat (100) ein Muster (40) mit Erhebungen (72) aufweist, wobei jede Erhebung (72) eine Höhe aufweist, die gleich der Hälfte des Intervalls zwischen benachbarten Erhebungen (72) in dem Muster des Substrats (100) oder kleiner ist, und wobei das Muster von Erhebungen (72) des Substrats (100) in Querschnittansicht einen Neigungswinkel von annähernd 90 Grad aufweist. Provided is a technique of forming an aluminum film that has high flatness and less cavities. Step S11 is forming a first film having a thickness that is equal to or greater than 0.1 μm and less than 1 μm, by sputtering a material onto a substrate. Step S12 is reflowing the first film by heating the first film. Step S13 is forming a second film by sputtering the material onto the first film that has been reflowed. Step S14 is reflowing the second film by heating the second film. Step S15 is forming a third film by sputtering the material onto the second film that has been reflowed. Step S16 is reflowing the third film by heating the third film.