Relativlagebestimmung bei Komponenten einer optischen Einheit

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Bestimmung der Lage einer ersten Komponente (109) einer optischen Abbildungseinrichtung, insbesondere einer Abbildungseinrichtung für die Mikrolithographie, bezüglich einer zweiten Komponente (111) der optischen Abbildungseinrichtung, wobei eine der beiden Komponenten eine optische Einheit (109), insbesondere ein optisches Element, der optischen Abbildungseinrichtung ist und die andere der beiden Komponenten eine Stützstruktur (111) der optischen Abbildungseinrichtung ist. Das Verfahren umfasst einen Annäherungsschritt, in dem die beiden Komponenten (109, 111) im Raum einander relativ angenähert werden, und einen dem Annäherungsschritt nachfolgenden Lagebestimmungsschritt, in dem die Lage der beiden Komponenten (109, 111) zueinander bestimmt wird. In dem Lagebestimmungsschritt wird wenigstens ein Messlichtbündel (115.3) einer Messeinheit (115) auf eine der ersten Komponente (109) zugeordnete Detektoroberfläche (115.4) der Messeinheit (115) gelenkt und durch die Detektoroberfläche (115.4) unter Generierung wenigstens eines Detektorsignals erfasst, wobei das Detektorsignal wenigstens eine Information über eine Auftreffposition des Messlichtbündels (115.3) auf der Detektoroberfläche (115.4) umfasst. Weiterhin wird in dem Lagebestimmungsschritt die Lage der ersten Komponente (109) zu der zweiten Komponente (111) unter Verwendung des Detektorsignals bestimmt. Hierzu wird in einem Vorbereitungsschritt vor dem Lagebestimmungsschritt, insbesondere vor dem Annäherungsschritt, eine das Messlichtbündel (115.3) erzeugende Messlichtquelle (115.1) der Messeinheit (115) mit der ersten Komponente (109) verbunden und eine die Detektoroberfläche (115.4) umfassende Detektoreinheit (115.2) der Messeinheit (115) mit der zweiten Komponente (111) verbunden.