Verfahren zur Herstellung eines optischen Systems einer Projektionsbestimmungsanlage für die Projektionslithographie

Zur Herstellung eines optischen Systems einer Projektionsbelichtungsanlage für die Projektionslithographie wird eine Soll-Oberflächenform einer Reflexionsfläche (20) eines Spiegels (M6) als optischer Komponente für das optische System bestimmt. Der Spiegel (M6) wird am Herstellort unter Berücksichti...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	Conradi, Olaf, Golde, Daniel, Hembacher, Stefan, Nefzi, Marwene, Kneer, Bernhard
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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