Verfahren zur Herstellung eines optischen Systems einer Projektionsbestimmungsanlage für die Projektionslithographie

Zur Herstellung eines optischen Systems einer Projektionsbelichtungsanlage für die Projektionslithographie wird eine Soll-Oberflächenform einer Reflexionsfläche (20) eines Spiegels (M6) als optischer Komponente für das optische System bestimmt. Der Spiegel (M6) wird am Herstellort unter Berücksichti...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Conradi, Olaf, Golde, Daniel, Hembacher, Stefan, Nefzi, Marwene, Kneer, Bernhard
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Zur Herstellung eines optischen Systems einer Projektionsbelichtungsanlage für die Projektionslithographie wird eine Soll-Oberflächenform einer Reflexionsfläche (20) eines Spiegels (M6) als optischer Komponente für das optische System bestimmt. Der Spiegel (M6) wird am Herstellort unter Berücksichtigung der bestimmten Soll-Oberflächenform gefertigt. Eine Passe (P) des Spiegels (M6) wird durch Vergleich einer Oberflächenform der Reflexionsfläche (20) des Spiegels (M6) am Einsatzort für das optische System mit der bestimmten Soll-Oberflächenform bestimmt. Eine optische Korrekturfläche wird unter Berücksichtigung der bestimmten Passe (P) gefertigt. Das optische System wird dann mit dem gefertigten Spiegel (M6) und der gefertigten Korrekturfläche fertiggestellt. Es resultiert ein optisches System mit möglichst geringen Abbildungsfehlern am Einsatzort.