Verfahren zur Herstellung eines optischen Systems einer Projektionsbestimmungsanlage für die Projektionslithographie

Verfahren zur Herstellung eines optischen Systems einer Projektionsbestimmungsanlage für die Projektionslithographie

Zur Herstellung eines optischen Systems einer Projektionsbelichtungsanlage für die Projektionslithographie wird eine Soll-Oberflächenform einer Reflexionsfläche (20) eines Spiegels (M6) als optischer Komponente für das optische System bestimmt. Der Spiegel (M6) wird am Herstellort unter Berücksichti...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Conradi, Olaf, Golde, Daniel, Hembacher, Stefan, Nefzi, Marwene, Kneer, Bernhard
Format: Patent
Sprache:ger
Schlagworte:
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
CINEMATOGRAPHY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
MATERIALS THEREFOR
OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
OPTICS
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
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container_end_page
container_issue
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container_title
container_volume
creator Conradi, Olaf
Golde, Daniel
Hembacher, Stefan
Nefzi, Marwene
Kneer, Bernhard
description Zur Herstellung eines optischen Systems einer Projektionsbelichtungsanlage für die Projektionslithographie wird eine Soll-Oberflächenform einer Reflexionsfläche (20) eines Spiegels (M6) als optischer Komponente für das optische System bestimmt. Der Spiegel (M6) wird am Herstellort unter Berücksichtigung der bestimmten Soll-Oberflächenform gefertigt. Eine Passe (P) des Spiegels (M6) wird durch Vergleich einer Oberflächenform der Reflexionsfläche (20) des Spiegels (M6) am Einsatzort für das optische System mit der bestimmten Soll-Oberflächenform bestimmt. Eine optische Korrekturfläche wird unter Berücksichtigung der bestimmten Passe (P) gefertigt. Das optische System wird dann mit dem gefertigten Spiegel (M6) und der gefertigten Korrekturfläche fertiggestellt. Es resultiert ein optisches System mit möglichst geringen Abbildungsfehlern am Einsatzort.
format Patent
fullrecord <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_DE102019201062A1</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>DE102019201062A1</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_DE102019201062A13</originalsourceid><addsrcrecordid>eNqNi7EKwjAYhLs4iPoOWRyFtoLgWLTSUVBcS6zXJpom4f_TQZ_NzRcziIOjw3Fw33fjZDiBWqkIVjwGEhWIA4wZbCegLVg4HzQ3KvLDPaKePzuJPbkrbkE7y2dw0H0fPyytkR1E-3qSuGj8WkYH5TqSXmlMk1ErDWP27Uky35XHTbWAdzXYywYWod6WWZqn2TomXeVFtvzXewNqh0lQ</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>Verfahren zur Herstellung eines optischen Systems einer Projektionsbestimmungsanlage für die Projektionslithographie</title><source>esp@cenet</source><creator>Conradi, Olaf ; Golde, Daniel ; Hembacher, Stefan ; Nefzi, Marwene ; Kneer, Bernhard</creator><creatorcontrib>Conradi, Olaf ; Golde, Daniel ; Hembacher, Stefan ; Nefzi, Marwene ; Kneer, Bernhard</creatorcontrib><description>Zur Herstellung eines optischen Systems einer Projektionsbelichtungsanlage für die Projektionslithographie wird eine Soll-Oberflächenform einer Reflexionsfläche (20) eines Spiegels (M6) als optischer Komponente für das optische System bestimmt. Der Spiegel (M6) wird am Herstellort unter Berücksichtigung der bestimmten Soll-Oberflächenform gefertigt. Eine Passe (P) des Spiegels (M6) wird durch Vergleich einer Oberflächenform der Reflexionsfläche (20) des Spiegels (M6) am Einsatzort für das optische System mit der bestimmten Soll-Oberflächenform bestimmt. Eine optische Korrekturfläche wird unter Berücksichtigung der bestimmten Passe (P) gefertigt. Das optische System wird dann mit dem gefertigten Spiegel (M6) und der gefertigten Korrekturfläche fertiggestellt. Es resultiert ein optisches System mit möglichst geringen Abbildungsfehlern am Einsatzort.</description><language>ger</language><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR ; CINEMATOGRAPHY ; ELECTROGRAPHY ; HOLOGRAPHY ; MATERIALS THEREFOR ; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS ; OPTICS ; ORIGINALS THEREFOR ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES ; PHYSICS</subject><creationdate>2019</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20190912&amp;DB=EPODOC&amp;CC=DE&amp;NR=102019201062A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25543,76294</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20190912&amp;DB=EPODOC&amp;CC=DE&amp;NR=102019201062A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>Conradi, Olaf</creatorcontrib><creatorcontrib>Golde, Daniel</creatorcontrib><creatorcontrib>Hembacher, Stefan</creatorcontrib><creatorcontrib>Nefzi, Marwene</creatorcontrib><creatorcontrib>Kneer, Bernhard</creatorcontrib><title>Verfahren zur Herstellung eines optischen Systems einer Projektionsbestimmungsanlage für die Projektionslithographie</title><description>Zur Herstellung eines optischen Systems einer Projektionsbelichtungsanlage für die Projektionslithographie wird eine Soll-Oberflächenform einer Reflexionsfläche (20) eines Spiegels (M6) als optischer Komponente für das optische System bestimmt. Der Spiegel (M6) wird am Herstellort unter Berücksichtigung der bestimmten Soll-Oberflächenform gefertigt. Eine Passe (P) des Spiegels (M6) wird durch Vergleich einer Oberflächenform der Reflexionsfläche (20) des Spiegels (M6) am Einsatzort für das optische System mit der bestimmten Soll-Oberflächenform bestimmt. Eine optische Korrekturfläche wird unter Berücksichtigung der bestimmten Passe (P) gefertigt. Das optische System wird dann mit dem gefertigten Spiegel (M6) und der gefertigten Korrekturfläche fertiggestellt. Es resultiert ein optisches System mit möglichst geringen Abbildungsfehlern am Einsatzort.</description><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</subject><subject>CINEMATOGRAPHY</subject><subject>ELECTROGRAPHY</subject><subject>HOLOGRAPHY</subject><subject>MATERIALS THEREFOR</subject><subject>OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS</subject><subject>OPTICS</subject><subject>ORIGINALS THEREFOR</subject><subject>PHOTOGRAPHY</subject><subject>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</subject><subject>PHYSICS</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2019</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNqNi7EKwjAYhLs4iPoOWRyFtoLgWLTSUVBcS6zXJpom4f_TQZ_NzRcziIOjw3Fw33fjZDiBWqkIVjwGEhWIA4wZbCegLVg4HzQ3KvLDPaKePzuJPbkrbkE7y2dw0H0fPyytkR1E-3qSuGj8WkYH5TqSXmlMk1ErDWP27Uky35XHTbWAdzXYywYWod6WWZqn2TomXeVFtvzXewNqh0lQ</recordid><startdate>20190912</startdate><enddate>20190912</enddate><creator>Conradi, Olaf</creator><creator>Golde, Daniel</creator><creator>Hembacher, Stefan</creator><creator>Nefzi, Marwene</creator><creator>Kneer, Bernhard</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20190912</creationdate><title>Verfahren zur Herstellung eines optischen Systems einer Projektionsbestimmungsanlage für die Projektionslithographie</title><author>Conradi, Olaf ; Golde, Daniel ; Hembacher, Stefan ; Nefzi, Marwene ; Kneer, Bernhard</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_DE102019201062A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>ger</language><creationdate>2019</creationdate><topic>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</topic><topic>CINEMATOGRAPHY</topic><topic>ELECTROGRAPHY</topic><topic>HOLOGRAPHY</topic><topic>MATERIALS THEREFOR</topic><topic>OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS</topic><topic>OPTICS</topic><topic>ORIGINALS THEREFOR</topic><topic>PHOTOGRAPHY</topic><topic>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</topic><topic>PHYSICS</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>Conradi, Olaf</creatorcontrib><creatorcontrib>Golde, Daniel</creatorcontrib><creatorcontrib>Hembacher, Stefan</creatorcontrib><creatorcontrib>Nefzi, Marwene</creatorcontrib><creatorcontrib>Kneer, Bernhard</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>Conradi, Olaf</au><au>Golde, Daniel</au><au>Hembacher, Stefan</au><au>Nefzi, Marwene</au><au>Kneer, Bernhard</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>Verfahren zur Herstellung eines optischen Systems einer Projektionsbestimmungsanlage für die Projektionslithographie</title><date>2019-09-12</date><risdate>2019</risdate><abstract>Zur Herstellung eines optischen Systems einer Projektionsbelichtungsanlage für die Projektionslithographie wird eine Soll-Oberflächenform einer Reflexionsfläche (20) eines Spiegels (M6) als optischer Komponente für das optische System bestimmt. Der Spiegel (M6) wird am Herstellort unter Berücksichtigung der bestimmten Soll-Oberflächenform gefertigt. Eine Passe (P) des Spiegels (M6) wird durch Vergleich einer Oberflächenform der Reflexionsfläche (20) des Spiegels (M6) am Einsatzort für das optische System mit der bestimmten Soll-Oberflächenform bestimmt. Eine optische Korrekturfläche wird unter Berücksichtigung der bestimmten Passe (P) gefertigt. Das optische System wird dann mit dem gefertigten Spiegel (M6) und der gefertigten Korrekturfläche fertiggestellt. Es resultiert ein optisches System mit möglichst geringen Abbildungsfehlern am Einsatzort.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record>
fulltext fulltext_linktorsrc
identifier
ispartof
issn
language ger
recordid cdi_epo_espacenet_DE102019201062A1
source esp@cenet
subjects APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
CINEMATOGRAPHY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
MATERIALS THEREFOR
OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
OPTICS
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
title Verfahren zur Herstellung eines optischen Systems einer Projektionsbestimmungsanlage für die Projektionslithographie
url https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2025-01-21T17%3A57%3A50IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=Conradi,%20Olaf&rft.date=2019-09-12&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3EDE102019201062A1%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true