Optisches System und Lithographieanlage

Ein optisches System (200), insbesondere ein Projektionssystem (104), für eine Lithographieanlage (100A, 100B), aufweisend ein erstes optisches Element (202), ein zweites optisches Element (204), einen Sensorrahmen (222), einen ersten Tragrahmen (208), welcher das erste optische Element (202) trägt,...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	Mutsaers, Mark, Qadir, Asma, De Jongh, Robertus Johannes Marinus, Wijckmans, Maurice, Geuppert, Bernhard, Starreveld, Jeoren
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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