Optisches System und Lithographieanlage

Ein optisches System (200), insbesondere ein Projektionssystem (104), für eine Lithographieanlage (100A, 100B), aufweisend ein erstes optisches Element (202), ein zweites optisches Element (204), einen Sensorrahmen (222), einen ersten Tragrahmen (208), welcher das erste optische Element (202) trägt,...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Mutsaers, Mark, Qadir, Asma, De Jongh, Robertus Johannes Marinus, Wijckmans, Maurice, Geuppert, Bernhard, Starreveld, Jeoren
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Ein optisches System (200), insbesondere ein Projektionssystem (104), für eine Lithographieanlage (100A, 100B), aufweisend ein erstes optisches Element (202), ein zweites optisches Element (204), einen Sensorrahmen (222), einen ersten Tragrahmen (208), welcher das erste optische Element (202) trägt, und einen von dem ersten Tragrahmen (208) getrennten zweiten Tragrahmen (210), welcher sowohl das zweite optische Element (204) als auch den Sensorrahmen (222) trägt.