Verfahren zur Herstellung einer Aluminiumschicht und optisches Element

Es wird ein Verfahren zur Herstellung einer Aluminiumschicht beschrieben, umfassend die Schritte:- Aufbringen einer metallischen Keimschicht auf ein Substrat, wobei die Keimschicht eine Dicke von nicht mehr als 5 nm aufweist, und- Aufbringen der Aluminiumschicht auf die Keimschicht, wobei die Aluminiumschicht eine Dicke von mehr als 30 nm aufweist. Weiterhin wird ein optisches Element mit der Spiegelschicht angegeben. A method for producing an aluminum layer is provided. The method includes depositing a metallic seed layer on a substrate, the seed layer having a thickness of not more than 5 nm, and also includes applying the aluminum layer to the seed layer, wherein the aluminum layer has a thickness of more than 30 nm. Further, an optical element, which can be a mirror layer, is provided including the metallic seed layer and the aluminum layer.