Abstützung eines optischen Elements

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Anordnung einer Abbildungseinrichtung für die Mikrolithographie, insbesondere für die Verwendung von Licht im extremen UV-Bereich (EUV), mit einer Halteeinrichtung (110) zum Halten eines optischen Elements (109), wobei das optische Element (109) eine optische...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Körner, Christian, Müller, Christoph, Anselm, Eugen
Format: Patent
Sprache:ger
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:Die vorliegende Erfindung betrifft eine Anordnung einer Abbildungseinrichtung für die Mikrolithographie, insbesondere für die Verwendung von Licht im extremen UV-Bereich (EUV), mit einer Halteeinrichtung (110) zum Halten eines optischen Elements (109), wobei das optische Element (109) eine optische Fläche (109.1) aufweist und eine Haupterstreckungsebene definiert, in der das optische Element (109) eine Radialrichtung sowie eine Umfangsrichtung definiert. Die Halteeinrichtung (110) weist eine Basiseinheit (110.1) und mehr als drei separate Halteeinheiten (110.2) auf, wobei die Basiseinheit (110.1) mehrere in der Umfangsrichtung zueinander beabstandete Stützschnittstelleneinheiten (110.3) zum Anbinden der Halteeinrichtung (110) an eine Stützstruktur (102.1) aufweist. Die Halteeinheiten (110.2) sind mit der Basiseinheit (110.1) verbunden und entlang der Umfangsrichtung verteilt und voneinander beabstandet angeordnet. Die Halteeinheiten (110.2) sind dazu konfiguriert, das optische Element (109) bezüglich der Basiseinheit (110.1) halten. Die Basiseinheit weist wenigstens ein Stützmembranelement (110.4) auf, wobei sich das wenigstens eine Stützmembranelement (110.4) hauptsächlich entlang der Umfangsrichtung und entlang der Radialrichtung erstreckt, wobei das wenigstens eine Stützmembranelement (110.4) quer zu der Umfangsrichtung und der Radialrichtung eine Dickenabmessung aufweist. Die Halteeinheiten (110.2) sind auf einer dem optischen Element (109) zugewandten Vorderseite des wenigstens einen Stützmembranelements (110.4) angeordnet. An arrangement of a microlithographic imaging device, such as one that operates in the EUV range, includes a holding device for holding an optical element. The optical element includes an optical surface and defines a plane of main extension, in which the optical element defines a radial direction and a circumferential direction. The holding device includes a base unit and more than three separate holding units. The base unit includes a plurality of support interface units, which are spaced apart from one another in the circumferential direction, for connecting the holding device to a support structure. The holding units are connected to the base unit and distributed along the circumferential direction and spaced apart from one another. The holding units hold the optical element with respect to the base unit.