Verfahren zur Herstellung einer epitaktisch beschichteten Scheibe aus Halbleitermaterial

Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung von epitaktisch beschichteten Scheiben aus Halbleitermaterial mit einem definierten BMD, die von einem einkristallinen Stab aus Halbleitermaterial abgetrennt wurden. Für die Herstellung dieser Halbleiterscheiben wird vor der Abtrennung der einzelnen Halbleiterscheiben mindestens eine, die späteren Produktscheiben repräsentierende Testscheibe von dem Stab abgetrennt und mindestens einer einen Epi-Prozess simulierenden themischen Behandlung unterzogen, um so, vor der Abtrennung und Prozessierung der restlichen Halbleiterscheiben dieses Stabes, frühzeitig unerwünschte Abweichungen der BMD-Spezifikation des Endproduktes erkennen zu können .