Projektionsbelichtungsanlage mit einer Kühlanordnung
Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage (1) für die Halbleiterlithographie umfassend eine Kühlanordnung (30) für eine Mehrzahl von Einzelkomponenten (46). Dabei umfasst die Kühlanordnung (30) eine Anzahl von n Kühlsegmenten (32), die wiederum eine Anzahl von mindestens n Kühlkanälen...
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Format: | Patent |
Sprache: | ger |
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