Projektionsbelichtungsanlage mit einer Kühlanordnung

Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage (1) für die Halbleiterlithographie umfassend eine Kühlanordnung (30) für eine Mehrzahl von Einzelkomponenten (46). Dabei umfasst die Kühlanordnung (30) eine Anzahl von n Kühlsegmenten (32), die wiederum eine Anzahl von mindestens n Kühlkanälen...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Büttner, Paul, Giszas, Klaus, Bittlingmaier, Tobias, Stübler, Thomas, Lange, Waldemar
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY ADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OFTHREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVEAGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING,STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PERFORMING OPERATIONS PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS TRANSPORTING
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage (1) für die Halbleiterlithographie umfassend eine Kühlanordnung (30) für eine Mehrzahl von Einzelkomponenten (46). Dabei umfasst die Kühlanordnung (30) eine Anzahl von n Kühlsegmenten (32), die wiederum eine Anzahl von mindestens n Kühlkanälen (33) und eine Anzahl von mindestens n-1 Verbindungselementen (41), die zwischen den n Kühlsegmenten (32) angeordnet sind, umfassen, wobei mindestens zwei der Kühlsegmente (32) in Serie angeordnet sind.