Projektionsbelichtungsanlage mit einer Kühlanordnung
Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage (1) für die Halbleiterlithographie umfassend eine Kühlanordnung (30) für eine Mehrzahl von Einzelkomponenten (46). Dabei umfasst die Kühlanordnung (30) eine Anzahl von n Kühlsegmenten (32), die wiederum eine Anzahl von mindestens n Kühlkanälen...
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| Format: | Patent |
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| creator | Büttner, Paul Giszas, Klaus Bittlingmaier, Tobias Stübler, Thomas Lange, Waldemar |
| description | Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage (1) für die Halbleiterlithographie umfassend eine Kühlanordnung (30) für eine Mehrzahl von Einzelkomponenten (46). Dabei umfasst die Kühlanordnung (30) eine Anzahl von n Kühlsegmenten (32), die wiederum eine Anzahl von mindestens n Kühlkanälen (33) und eine Anzahl von mindestens n-1 Verbindungselementen (41), die zwischen den n Kühlsegmenten (32) angeordnet sind, umfassen, wobei mindestens zwei der Kühlsegmente (32) in Serie angeordnet sind. |
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Dabei umfasst die Kühlanordnung (30) eine Anzahl von n Kühlsegmenten (32), die wiederum eine Anzahl von mindestens n Kühlkanälen (33) und eine Anzahl von mindestens n-1 Verbindungselementen (41), die zwischen den n Kühlsegmenten (32) angeordnet sind, umfassen, wobei mindestens zwei der Kühlsegmente (32) in Serie angeordnet sind.</description><language>ger</language><subject>ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY ; ADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OFTHREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVEAGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING,STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING ; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR ; CINEMATOGRAPHY ; ELECTROGRAPHY ; HOLOGRAPHY ; MATERIALS THEREFOR ; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS ; OPTICS ; ORIGINALS THEREFOR ; PERFORMING OPERATIONS ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES ; PHYSICS ; TRANSPORTING</subject><creationdate>2018</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20181115&DB=EPODOC&CC=DE&NR=102018216645A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,309,781,886,25566,76549</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20181115&DB=EPODOC&CC=DE&NR=102018216645A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>Büttner, Paul</creatorcontrib><creatorcontrib>Giszas, Klaus</creatorcontrib><creatorcontrib>Bittlingmaier, Tobias</creatorcontrib><creatorcontrib>Stübler, Thomas</creatorcontrib><creatorcontrib>Lange, Waldemar</creatorcontrib><title>Projektionsbelichtungsanlage mit einer Kühlanordnung</title><description>Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage (1) für die Halbleiterlithographie umfassend eine Kühlanordnung (30) für eine Mehrzahl von Einzelkomponenten (46). 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