ELEKTRONISCHE VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM HERSTELLEN DERSELBEN

Verfahren (100; 150) zum Herstellen einer elektronischen Vorrichtung (30-4; 50') mit folgenden Schritten:Bereitstellen (110) eines Substrats mit einer daran oder darauf angeordneten Schaltungsstruktur, wobei die Schaltungsstruktur zumindest bereichsweise von einer Passivierungsschicht bedeckt i...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Diedrichs, André, Doblaski, Jakob Moritz, Aßmann, Heiko, Förster, Anita
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY SEMICONDUCTOR DEVICES
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Verfahren (100; 150) zum Herstellen einer elektronischen Vorrichtung (30-4; 50') mit folgenden Schritten:Bereitstellen (110) eines Substrats mit einer daran oder darauf angeordneten Schaltungsstruktur, wobei die Schaltungsstruktur zumindest bereichsweise von einer Passivierungsschicht bedeckt ist, und die Passivierungsschicht in einem Bereich der Schaltungsstruktur von einer photolithographischen Schicht zumindest teilweise bedeckt ist;Behandeln (120) der photolithographischen Schicht zum Erzeugen eines Oberflächenprofils in der photolithographischen Schicht an einer der Passivierungsschicht abgewandten Seite der photolithographischen Schicht; undFlächiges Entfernern (130) der photolithographischen Schicht und teilweises Entfernern der Passivierungsschicht, so dass das Oberflächenprofil der photolithographischen Schicht zumindest teilweise in die Passivierungsschicht übertragen wird;wobei basierend auf dem Behandeln (120) eine Dekomposition und/oder eine thermomechanisch induzierte Faltenbildung der photolithographischen Schicht und somit das Oberflächenprofil erhalten wird.