Projektionsbelichtungsanlage mit einer Anordnung zur Halterung von optischen Elementen mit zusätzlicher Torsionsentkopplung

Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage (1), insbesondere eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage, mit einer Anordnung (44) zur Halterung eines optischen Elementes (30). Die Anordnung (44) umfasst eine Tragstruktur (37), mindestens ein Krafteinleitungselement (42), mindestens ein erst...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Erath, Michael
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage (1), insbesondere eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage, mit einer Anordnung (44) zur Halterung eines optischen Elementes (30). Die Anordnung (44) umfasst eine Tragstruktur (37), mindestens ein Krafteinleitungselement (42), mindestens ein erstes Entkopplungselement (39), welches mit dem Krafteinleitungselement (42) verbunden ist, mindestens eine Linearführung (32), und mindestens ein zweites Entkopplungselement (40, 40'). Das mindestens eine zweite Entkopplungselement (40, 40') ist zwischen dem Krafteinleitungselement (42) und der Tragstruktur (37) angeordnet.