Verfahren zur Zündung eines Plasmas in einer Plasmakammer und Zündschaltung

Ein Verfahren zur Zündung eines Plasmas in einer Plasmakammer (2), das im gezündeten Zustand von einer Hochfrequenzleitungsversorgung (10) über ein Impedanzanpassungsnetzwerk (7) mit einer Betriebsleistung größer oder gleich 500W und einer Betriebsfrequenz größer oder gleich 2 MHz versorgt wird, umfasst die Verfahrensschritte:a) mit einer Zündleistungsversorgung (3) Erzeugen einer Zündleistung, die kleiner ist als die Betriebsleistung, mit einer Zündfrequenz;b) Zuführen der Zündleistung zu einem Spannungswandler (5) und Erzeugen einer Zündwechselspannung;c) Zuführen der Zündwechselspannung zu einer Anregungsvorrichtung (6a, 6b) der Plasmakammer (2);d) Variation der Zündfrequenz. Method and circuit (1) for igniting a plasma in a plasma chamber (2), wherein the plasma, in the ignited state, can be supplied by a high-frequency power supply (10) via an impedance matching network (7), in particular with an operating power of greater than or equal to 500 W and an operating frequency of greater than or equal to 2 MHz, having: c) an ignition power supply (3) for generating an ignition power, which is lower than an operating power, with an ignition frequency, and also d) a voltage converter (5) which is designed such that the ignition power can be supplied to it and to generate an ignition AC voltage, wherein - the ignition circuit (1) is designed to supply the ignition AC voltage to the output of the impedance matching network (7) and an excitation apparatus (6a, 6b) of the plasma chamber (2), and wherein - the ignition circuit (1) further has a frequency sweeper (4) for varying the ignition frequency.