Grossaperturverhältnis-Mikroanzeigeeinheit mit einer Mikrokavitätstruktur

Die Offenbarung betrifft eine Großaperturverhältnis--Mikroanzeigeeinheit mit einer Mikrokavitätstruktur. Die Mikroanzeigeeinheit weist auf ein Substrat (SUB), Pixeleinheiten (UP), Steuerelemente (DT, TR, TG, TB) und organische lichtemittierende Dioden (OLE). Die organischen lichtemittierenden Dioden (OLE) weisen jeweils auf: eine Anode (ANO), eine organische Emissionsschicht (OL) und eine Kathode (CAT). Die Anode (ANO) wird ausgebildet mittels nacheinander Ausbildens einer reflektierenden Elektrode (REF), einer ersten dielektrischen Schicht (D1), einer zweiten dielektrischen Schicht (D2) und einer transparenten Elektrode (ITO). Die organische Emissionsschicht (OL) ist über der Anode (ANO) ausgebildet. Die Kathode (CAT) ist über der organischen Emissionsschicht (OL) ausgebildet. Die erste dielektrische Schicht (D1) und die zweite dielektrische Schicht (D2) haben einen Kontaktabschnitt (CNT), der mindestens eine Ecke der reflektierenden Elektrode (REF) freigelegt. Die Anode (ANO) ist über die Kontaktabschnitte mit der reflektierenden Elektrode (REF) verbunden. A microdisplay including: unit pixels (UP, figure 2) including driving elements (DT) TR TG TB and organic light-emitting diodes OLE arranged in a matrix on a substrate SUB; the OLEDs including: an anode ANO in which a reflecting electrode REF, a first dielectric layer D1, a second dielectric layer D2, and a transparent electrode ITO are sequentially stacked; a bank BN that covers the edges of the anode; an organic emission layer OL over the anode; and a cathode CAT over the emission layer; wherein the first and second dielectric layers have a contact portion formed therein that exposes at least one corner of the reflecting electrode, and the transparent electrode is connected to the reflecting electrode through the contact portion. There is also a method of manufacture in which trenches (T1 T2, figure 9B) defining sub pixels are formed in first and second planarization films (OC1 OC2) wherein the trenches are wider at the top of the first planarization film (OC1) than at the bottom of the second (OC2). A microcavity is formed by the reflecting electrode.