Vorrichtung zum Herein- und Herausführen eines Substrates in beziehungsweise aus einer Substratbehandlungseinrichtung

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Hineinführen oder Herausführen eines Substrates (2) in eine oder aus einer Substratbehandlungseinrichtung (1) durch einen sich zwischen einem ersten Spaltbegrenzungskörper (10, 10') und einem zweiten Spaltbegrenzungskörper (11,11') erstreckenden...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Jouvray, Alexandre
Format: Patent
Sprache:ger
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
container_end_page
container_issue
container_start_page
container_title
container_volume
creator Jouvray, Alexandre
description Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Hineinführen oder Herausführen eines Substrates (2) in eine oder aus einer Substratbehandlungseinrichtung (1) durch einen sich zwischen einem ersten Spaltbegrenzungskörper (10, 10') und einem zweiten Spaltbegrenzungskörper (11,11') erstreckenden Spalt (12), wobei der eine Spaltbreite (w) bestimmende Abstand der beiden Spaltbegrenzungskörper (10, 10'; 11,11') verstellbar ist. Die zum Spalt (12) gewandten Flächen (15, 15') jeweils eines Grundkörpers (14, 14') des Spaltbegrenzungskörper (10, 10'; 11,11') bilden in den Spalt (12) mündende Gasaustrittsöffnungen (16, 16') aus. Zur Spaltbreiten-Einstellung liegen Schrägflächen (21, 21') jeweils an Schrägflächen (22, 22') an.
format Patent
fullrecord <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_DE102018110348A1</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>DE102018110348A1</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_DE102018110348A13</originalsourceid><addsrcrecordid>eNrjZCgLyy8qykzOKCnNS1eoKs1V8EgtSs3M01UozUsBsRNLi9MO78koSs1TAAqnFisElyYVlxQllgCZmXkKSalVmakZQL3F5amZxakKQOVgdUVwdUmpGYl5KTkgJUAJmFU8DKxpiTnFqbxQmptB1c01xNlDN7UgPz61uCAxOTUvtSTexdXQwMjA0MLQ0MDYxMLR0JhYdQB9l0k8</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>Vorrichtung zum Herein- und Herausführen eines Substrates in beziehungsweise aus einer Substratbehandlungseinrichtung</title><source>esp@cenet</source><creator>Jouvray, Alexandre</creator><creatorcontrib>Jouvray, Alexandre</creatorcontrib><description>Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Hineinführen oder Herausführen eines Substrates (2) in eine oder aus einer Substratbehandlungseinrichtung (1) durch einen sich zwischen einem ersten Spaltbegrenzungskörper (10, 10') und einem zweiten Spaltbegrenzungskörper (11,11') erstreckenden Spalt (12), wobei der eine Spaltbreite (w) bestimmende Abstand der beiden Spaltbegrenzungskörper (10, 10'; 11,11') verstellbar ist. Die zum Spalt (12) gewandten Flächen (15, 15') jeweils eines Grundkörpers (14, 14') des Spaltbegrenzungskörper (10, 10'; 11,11') bilden in den Spalt (12) mündende Gasaustrittsöffnungen (16, 16') aus. Zur Spaltbreiten-Einstellung liegen Schrägflächen (21, 21') jeweils an Schrägflächen (22, 22') an.</description><language>ger</language><subject>CHEMICAL SURFACE TREATMENT ; CHEMISTRY ; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL ; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL ; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL ; COATING METALLIC MATERIAL ; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL ; METALLURGY ; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</subject><creationdate>2019</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20191031&amp;DB=EPODOC&amp;CC=DE&amp;NR=102018110348A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25543,76294</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20191031&amp;DB=EPODOC&amp;CC=DE&amp;NR=102018110348A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>Jouvray, Alexandre</creatorcontrib><title>Vorrichtung zum Herein- und Herausführen eines Substrates in beziehungsweise aus einer Substratbehandlungseinrichtung</title><description>Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Hineinführen oder Herausführen eines Substrates (2) in eine oder aus einer Substratbehandlungseinrichtung (1) durch einen sich zwischen einem ersten Spaltbegrenzungskörper (10, 10') und einem zweiten Spaltbegrenzungskörper (11,11') erstreckenden Spalt (12), wobei der eine Spaltbreite (w) bestimmende Abstand der beiden Spaltbegrenzungskörper (10, 10'; 11,11') verstellbar ist. Die zum Spalt (12) gewandten Flächen (15, 15') jeweils eines Grundkörpers (14, 14') des Spaltbegrenzungskörper (10, 10'; 11,11') bilden in den Spalt (12) mündende Gasaustrittsöffnungen (16, 16') aus. Zur Spaltbreiten-Einstellung liegen Schrägflächen (21, 21') jeweils an Schrägflächen (22, 22') an.</description><subject>CHEMICAL SURFACE TREATMENT</subject><subject>CHEMISTRY</subject><subject>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</subject><subject>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</subject><subject>COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL</subject><subject>COATING METALLIC MATERIAL</subject><subject>DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL</subject><subject>INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL</subject><subject>METALLURGY</subject><subject>SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2019</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZCgLyy8qykzOKCnNS1eoKs1V8EgtSs3M01UozUsBsRNLi9MO78koSs1TAAqnFisElyYVlxQllgCZmXkKSalVmakZQL3F5amZxakKQOVgdUVwdUmpGYl5KTkgJUAJmFU8DKxpiTnFqbxQmptB1c01xNlDN7UgPz61uCAxOTUvtSTexdXQwMjA0MLQ0MDYxMLR0JhYdQB9l0k8</recordid><startdate>20191031</startdate><enddate>20191031</enddate><creator>Jouvray, Alexandre</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20191031</creationdate><title>Vorrichtung zum Herein- und Herausführen eines Substrates in beziehungsweise aus einer Substratbehandlungseinrichtung</title><author>Jouvray, Alexandre</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_DE102018110348A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>ger</language><creationdate>2019</creationdate><topic>CHEMICAL SURFACE TREATMENT</topic><topic>CHEMISTRY</topic><topic>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</topic><topic>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</topic><topic>COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL</topic><topic>COATING METALLIC MATERIAL</topic><topic>DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL</topic><topic>INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL</topic><topic>METALLURGY</topic><topic>SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>Jouvray, Alexandre</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>Jouvray, Alexandre</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>Vorrichtung zum Herein- und Herausführen eines Substrates in beziehungsweise aus einer Substratbehandlungseinrichtung</title><date>2019-10-31</date><risdate>2019</risdate><abstract>Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Hineinführen oder Herausführen eines Substrates (2) in eine oder aus einer Substratbehandlungseinrichtung (1) durch einen sich zwischen einem ersten Spaltbegrenzungskörper (10, 10') und einem zweiten Spaltbegrenzungskörper (11,11') erstreckenden Spalt (12), wobei der eine Spaltbreite (w) bestimmende Abstand der beiden Spaltbegrenzungskörper (10, 10'; 11,11') verstellbar ist. Die zum Spalt (12) gewandten Flächen (15, 15') jeweils eines Grundkörpers (14, 14') des Spaltbegrenzungskörper (10, 10'; 11,11') bilden in den Spalt (12) mündende Gasaustrittsöffnungen (16, 16') aus. Zur Spaltbreiten-Einstellung liegen Schrägflächen (21, 21') jeweils an Schrägflächen (22, 22') an.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record>
fulltext fulltext_linktorsrc
identifier
ispartof
issn
language ger
recordid cdi_epo_espacenet_DE102018110348A1
source esp@cenet
subjects CHEMICAL SURFACE TREATMENT
CHEMISTRY
COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL
COATING METALLIC MATERIAL
DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL
INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL
METALLURGY
SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
title Vorrichtung zum Herein- und Herausführen eines Substrates in beziehungsweise aus einer Substratbehandlungseinrichtung
url https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2025-01-23T05%3A06%3A00IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=Jouvray,%20Alexandre&rft.date=2019-10-31&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3EDE102018110348A1%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true