VERFAHREN ZUR ÜBERWACHUNG DER EUV-STRAHLUNG FÜR EUV-ABBILDUNGSANORDNUNGEN, INSBESONDERE MASKENINSPEKTIONSANLAGEN UND VORRICHTUNGEN HIERFÜR

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Überwachung und insbesondere Kompensation von räumlichen und/oder zeitlichen Veränderungen der Lichterzeugung einer EUV-Lichtquelle (1), wobei die EUV-Lichtquelle mindestens ein EUV-Strahlenbündel (2) erzeugt, welches als Nutzlicht der EUV-Lichtqu...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Schneider, Sonja, Schömer, Ricarda, Wagner, Hendrik, Pauls, Walter, Schmidt, Holger, Hellweg, Dirk, Wabra, Norbert, Bittner, Boris, Wald, Christian
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES HOLOGRAPHY IRRADIATION DEVICES MATERIALS THEREFOR MEASURING NUCLEAR ENGINEERING NUCLEAR PHYSICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOTOTHERWISE PROVIDED FOR TESTING TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES ORSTRUCTURES TESTING STRUCTURES OR APPARATUS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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