Optisches System für die Mikrolithographie, sowie Verfahren zur Positionsbestimmung

Die Erfindung betrifft ein optisches System für die Mikrolithographie, sowie ein Verfahren zur Positionsbestimmung. Ein erfindungsgemäßes optisches System weist wenigstens eine Komponente und wenigstens ein dieser Komponente zur Positionsbestimmung zugeordnetes Interferometer mit einer Lichtquellen-...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Königer, Andreas, van der Pasch, Engelbertus Antonius Fransiscus, Bleidistel, Sascha, Jansen, Maarten, Manger, Matthias, Cosijns, Suzanne, Baitinger, Henner
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR MEASURING MEASURING ANGLES MEASURING AREAS MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS TESTING
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Die Erfindung betrifft ein optisches System für die Mikrolithographie, sowie ein Verfahren zur Positionsbestimmung. Ein erfindungsgemäßes optisches System weist wenigstens eine Komponente und wenigstens ein dieser Komponente zur Positionsbestimmung zugeordnetes Interferometer mit einer Lichtquellen-Einheit auf, wobei die Komponente ein optisches Element ist und wobei die Lichtquellen-Einheit eine Lichtquelle zur Erzeugung wenigstens eines ersten Teilstrahls mit einer ersten Frequenz (f) und eine Durchstimm-Einrichtung, über welche eine Einstellung der ersten Frequenz (f) auf unterschiedliche Werte in einer vorgegebenen Frequenzabfolge durchführbar ist, aufweist.