Verfahren zum Aufbringen einer Deckschicht und reflektives optisches Element

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Aufbringen einer Decksicht (5) auf eine reflektierende Beschichtung (7) oder auf ein Substrat eines optischen Elements (1) zur Reflexion von Licht, welches zumindest eine Wellenlänge im EUV-Wellenlängenbereich aufweist, das Verfahren umfassend: Aufbringen der Deckschicht (5) mittels Atomlagenabscheidung, bevorzugt mittels räumlicher Atomlagenabscheidung, wobei bevorzugt vor dem Aufbringen der Deckschicht (5) mindestens eine Schutzschicht (4) auf die reflektierende Beschichtung (7) aufgebracht wird, die ein Metall, insbesondere ein Edelmetall, enthält. Die Erfindung betrifft auch ein optisches Element (1) zur Reflexion von Licht, welches zumindest eine Wellenlänge im EUV-Wellenlängenbereich aufweist, umfassend: eine reflektierende Beschichtung (7) sowie eine auf die reflektierende Beschichtung (7) oder auf ein Substrat des optischen Elements (1) durch Atomlagendeposition aufgebrachte Deckschicht (5), die bevorzugt eine Dicke von weniger als 10 Monolagen, weniger als 5 Monolagen oder genau einer Monolage aufweist.