Verfahren und Vorrichtung zum Bestimmen von durch eine Projektionsobjektiv verursachten Wellenfrontaberrationen

Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Bestimmen von durch ein Projektionsobjektiv verursachten Wellenfrontaberrationen. Ein erfindungsgemäßes Verfahren weist folgende Schritte auf: Bestrahlen eines Retikels (130) mit Strahlung, wobei das Retikel (130) eine Mehrzahl von strukturierten Bereichen aufweist und wobei von wenigstens einigen dieser strukturierten Bereiche ein Messstrahl ausgeht, Projizieren dieser Messstrahlen, mit einem Projektionsobjektiv (120), auf eine Sensoranordnung (140), und Messen der auf die Sensoranordnung (140) auftreffenden Strahlung zum Bestimmen von durch das Projektionsobjektiv (120) verursachten Wellenfrontaberrationen, wobei die genannten Schritte in einer Mehrzahl von Messstellungen durchgeführt werden, welche sich hinsichtlich der Relativposition zwischen dem aus Retikel (130) und Sensoranordnung (140) gebildeten Messsystem und dem Projektionsobjektiv (120) voneinander unterscheiden, und wobei in wenigstens einigen dieser Messstellungen Retikel (130) und/oder Sensoranordnung (140) einerseits und Projektionsobjektiv (120) andererseits relativ zueinander verdreht angeordnet werden. The invention relates to a method and to a device for determining wavefront aberrations caused by a projection objective. A method according to the invention has the following steps: irradiating a reticle (130) with radiation, the reticle (130) having a plurality of structured regions, and a measurement beam emanating from at least some of these structured regions; projecting said measurement beams by means of a projection objective (120) onto a sensor assembly (140) located in the image plane of the projection objective (120); and measuring the radiation hitting the sensor assembly (140) in order to determine wavefront aberrations caused by the projection objective (120), wherein the stated steps are performed in a plurality of measurement positions, which differ from each other with respect to the relative position between the measurement system formed by the reticle (130) and by the sensor assembly (140) and the projection objective (120), and the reticle (130) and/or the sensor assembly (140) on the one hand and the projection objective (120) on the other hand are arranged with rotation relative to each other in at least some of said measurement positions, this rotation occurring within the image plane or a plane lying parallel to the image plane.