Reinigungsmodul und Verfahren zur in situ Reinigung einer Quellkammer einer EUV-Strahlungsquelle, Strahlungsquellenmodul und Beleuchtungssystem für eine Projektionsbelichtungsanlage sowie Projektionsbelichtungsanlage

Ein Reinigungsmodul (236) zur in situ Reinigung einer Quellkammer (216, 217) einer EUV-Strahlungsquelle (215) eines Beleuchtungssystems (101) für eine Projektionsbelichtungsanlage umfasst eine Zuführvorrichtung (238) zur Einbringung mindestens eines Reinigungsmittels (240) in die Quellkammer (216, 2...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Petasch, Thomas, Nikolova, Denitsa
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY CLEANING CLEANING IN GENERAL ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PERFORMING OPERATIONS PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS PREVENTION OF FOULING IN GENERAL TRANSPORTING X-RAY TECHNIQUE
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Ein Reinigungsmodul (236) zur in situ Reinigung einer Quellkammer (216, 217) einer EUV-Strahlungsquelle (215) eines Beleuchtungssystems (101) für eine Projektionsbelichtungsanlage umfasst eine Zuführvorrichtung (238) zur Einbringung mindestens eines Reinigungsmittels (240) in die Quellkammer (216, 217), eine Bewegungsvorrichtung (241) zur Bewegung des Reinigungsmittels (240) relativ zu der Quellkammer (216, 217) und eine Entfernungseinrichtung (241) zur Entfernung des Reinigungsmittels (240) und/oder von durch die Einwirkung des Reinigungsmittels (240) abgelösten Verunreinigungen aus der Quellkammer (216, 217). Die Zuführungsvorrichtung (238) und die Entfernungseinrichtung (241) sind in situ an die Quellkammer (216, 217) ankoppelbar. Dies gewährleistet eine mechanische Reinigung der Quellkammer, ohne dass diese aus dem Beleuchtungssystem (101) ausgebaut und/oder in ihre Komponenten zerlegt werden muss.