Beschichtetes Produkt und Verfahren zur Herstellung

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Produkts, einen Tiegel sowie eine Verwendung einer Schicht aus kristallinen Siliziumnitrid, wobei das Produkt aus einem überwiegend aus Kohlenstoff oder einem keramischen Werkstoff bestehenden Material ausgebildet wird, wobei das Produkt mit...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Rauhut, Volker, Muscutt, Dennis, Brennfleck, Karl, Galle, Johannes
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
Online-Zugang:	Volltext bestellen
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Beschreibung
Zusammenfassung:	Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Produkts, einen Tiegel sowie eine Verwendung einer Schicht aus kristallinen Siliziumnitrid, wobei das Produkt aus einem überwiegend aus Kohlenstoff oder einem keramischen Werkstoff bestehenden Material ausgebildet wird, wobei das Produkt mittels chemischer Gasphasenabscheidung (CVD) mit einer Oberflächenschicht beschichtet wird, wobei das Produkt mit einer Oberflächenschicht aus zumindest teilkristallinen, bevorzugt kristallinen Siliziumnitrid (SiN) beschichtet wird, wobei die Oberflächenschicht bei einer Prozesstemperatur von über 1.100 °C bis 1.700 °C auf dem Produkt ausgebildet wird. The invention relates to a method for producing a product, to a crucible and to the use of a layer of crystalline silicon nitride, the product being formed from a material consisting mainly of carbon or of a ceramic material, the product being coated with surface layer by chemical vapor deposition (CVD), wherein the product is coated with a surface layer of at least semi-crystalline, preferably crystalline silicon nitride (Si3N4), the surface layer being formed on the product at a process temperature of more than 1100° C. to 1700° C.