Verfahren und Vorrichtung zum Ermitteln einer Reparaturform zum Bearbeiten eines Defekts einer photolithographischen Maske

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Ermitteln einer Reparaturform (195) zum Bearbeiten zumindest eines Defekts (140) einer photolithographischen Maske (100), das die folgenden Schritte aufweist: (a) Bestimmen von zumindest einem Korrekturwert (185) für die Reparaturform (195) des zumindest einen Defekts (140), wobei der Korrekturwert (185) eine Position (175) von zumindest einem Pattern-Element (130) der photolithographischen Maske (100) berücksichtigt, welches den zumindest einen Defekt (140) nicht kontaktiert; und (b) Korrigieren der Reparaturform (195) durch Anwenden des zumindest einen Korrekturwertes (185). The present invention relates to a method for ascertaining a repair shape for processing at least one defect of a photolithographic mask including the following steps: (a) determining at least one correction value for the repair shape of the at least one defect, wherein the correction value takes account of a position of at least one pattern element of the photolithographic mask, said at least one pattern element not contacting the at least one defect; and (b) correcting the repair shape by applying the at least one correction value.