Verfahren zum Herstellen eines mikroelektromechanischen Bauteils und Wafer-Anordnung
Die Erfindung schafft ein Verfahren zum Herstellen eines mikroelektromechanischen Bauteils sowie eine Waferanordnung. Das Verfahren umfasst die Schritte: Bereitstellen eines ersten Wafers mit einer Mehrzahl von mikroelektromechanischen Grundelementen (110a); Ausbilden einer jeweiligen Behälterstrukt...
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Hauptverfasser: | , |
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Format: | Patent |
Sprache: | ger |
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Zusammenfassung: | Die Erfindung schafft ein Verfahren zum Herstellen eines mikroelektromechanischen Bauteils sowie eine Waferanordnung. Das Verfahren umfasst die Schritte: Bereitstellen eines ersten Wafers mit einer Mehrzahl von mikroelektromechanischen Grundelementen (110a); Ausbilden einer jeweiligen Behälterstruktur (112a) auf oder an den mikroelektromechanischen Grundelementen (110a) auf Waferlevel; und Anordnen eines Öls (40) oder eines Gels innerhalb der Behälterstrukturen (112a).
A method for producing a microelectromechanical component as well as a wafer system includes steps of: providing a first wafer having a plurality of microelectromechanical base elements; forming a respective container structure on the microelectromechanical base elements at the wafer level; and disposing an oil or a gel within the container structures. |
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