Träger und Bauteil mit Pufferschicht sowie Verfahren zur Herstellung eines Bauteils

Es wird ein Träger (9) mit einer Pufferschicht (3) oder ein Bauteil (100) insbesondere mit einem solchen Träger angegeben. Der Träger ist metallisch ausgebildet, wobei die Pufferschicht eine Fließspannung aufweist, die mindestens 10 MPa und höchstens 300 MPa ist. Insbesondere weist der Träger einen Grundkörper (90) auf, der bezüglich dessen Materialzusammensetzung derart ausgebildet ist, dass eine Fließspannung des Grundkörpers größer ist als die Fließspannung der Pufferschicht. Das Bauteil weist etwa einen Halbleiterchip (10) mit einem Substrat (1) und einem darauf angeordneten Halbleiterkörper (2) auf, wobei der Träger einen thermischen Ausdehnungskoeffizienten aufweist, der mindestens 1,5-mal so groß ist wie ein thermischer Ausdehnungskoeffizient des Substrats oder des Halbleiterchips. Der Halbleiterchip ist mittels einer Verbindungsschicht (4) auf einer Montagefläche (94) des Trägers derart befestigt ist, dass die Verbindungsschicht zwischen dem Halbleiterchip und der Pufferschicht angeordnet ist.Des Weiteren wird ein Verfahren zur Herstellung eines solchen Bauteils angegeben. A carrier and a component are disclosed. In an embodiment a component includes a semiconductor chip including a substrate and a semiconductor body arranged thereon and a metallic carrier having a coefficient of thermal expansion which is at least 1.5 times greater than a coefficient of thermal expansion of the substrate or of the semiconductor chip, wherein the semiconductor chip is attached to a mounting surface of the metallic carrier by a connection layer such that the connection layer is located between the semiconductor chip and a buffer layer and adjoins a rear side of the semiconductor chip, wherein the buffer layer has a yield stress which is at least 10 MPa and at most 300 MPa, and wherein the substrate of the semiconductor chip and the metallic carrier of the component have a higher yield stress than the buffer layer.