Leistungselektronische Anordnung mit einer Haftschicht sowie Verfahren zur Herstellung dieser Anordnung
Es wird ein Verfahren und eine hiermit hergestellte Anordnung vorgeschlagen, die ausgebildet ist mit einem Substrat, mit einem Leistungshalbleiterbauelement und einer dazwischen angeordneten Haftschicht, wobei das Substrat eine erste dem Leistungshalbleiterbauelement zugewandte Oberfläche aufweist,...
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Format: | Patent |
Sprache: | ger |
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