Anordnung zur Kontaminationsreduzierung in einem optischen System, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	van den Heuvel, Leonie, Sosniak, Lukasz, Anantharaman, Vinod, Schaareman, Paul, Wernaart, Twan, Schoenmakers, Peter, Koller, Paul, Kaller, Julian
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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