Plasmavorrichtung

Plasmavorrichtung (200), die dafür ausgelegt ist, anhand eines Verfahrens zur chemischen Gasphasenabscheidung eines Plasmas auf einem Abschnitt eines Werkstücks (W) einen Film auszubilden oder eine Ätzung durchzuführen, wobei die Plasmavorrichtung (200) aufweist:eine Vakuumkammer (100), die aufweist: ein erstes Gehäuse (110), das eine erste Aussparung (114) und einen um die erste Aussparung (114) herum angeordneten ersten flachen Teil (111) aufweist, und ein zweites Gehäuse (120), das gegenüber dem ersten Gehäuse (110) angeordnet ist;ein Isolierungselement (30), das zwischen dem ersten flachen Teil (111) des ersten Gehäuses (110) und dem zweiten Gehäuse (120) angeordnet ist und dafür ausgelegt ist, in einem Zustand, wo ein zu behandelnder Abschnitt (10A) des Werkstücks (W) einem Raum innerhalb der ersten Aussparung (114) zugewandt ist und das Werkstück (W) vom ersten flachen Teil (111) getrennt ist, mit dem Werkstück (W) in Kontakt zu kommen; undeine Einheit (70) zum Anlegen von elektrischer Energie, die dafür ausgelegt ist, elektrische Energie an das Werkstück (W) anzulegen, wobeiein Abstand (A1) zwischen dem ersten flachen Teil (111) und einem Kontaktpunkt (P1) zwischen dem Werkstück (W) und dem Isolierungselement (30) kürzer ist als ein Abstand (B1) zwischen dem Werkstück (W) und einem Bodenteil (113) der ersten Aussparung (114). A plasma apparatus configured to form a film on or etch a work piece includes: a vacuum chamber including a first casing that has a first recess and a first flat part disposed around the first recess, and a second casing disposed opposite to the first casing; an insulating member that is disposed between the first flat part of the first casing and the second casing, and is configured to contact with the work piece in a state where the work piece faces a space inside the first recess and is separated from the first flat part; and an electricity application unit that is configured to apply electricity to the work piece, wherein a distance between the first flat part and a contact point between the work piece and the insulating member is shorter than a distance between the work piece and a bottom part of the first recess.