LITHOGRAPHIESYSTEM SOWIE VERFAHERN

Die vorliegende Erfindung schafft ein Lithographiesystem (200), aufweisend:ein Projektionsobjektiv (104) und einen Wafer (124), wobei das Projektionsobjektiv (104) umfasst: ein erstes optisches Element (206), ein zweites optisches Element (208), einen ersten Sensorteilrahmen (210) und einen zweiten...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Geuppert, Bernhard
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
Online-Zugang:	Volltext bestellen
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Schreiben Sie den ersten Kommentar!