LITHOGRAPHIESYSTEM SOWIE VERFAHERN

Die vorliegende Erfindung schafft ein Lithographiesystem (200), aufweisend:ein Projektionsobjektiv (104) und einen Wafer (124), wobei das Projektionsobjektiv (104) umfasst: ein erstes optisches Element (206), ein zweites optisches Element (208), einen ersten Sensorteilrahmen (210) und einen zweiten Sensorteilrahmen (212), welche voneinander schwingungsentkoppelt sind, einen ersten Sensor (216), welcher dazu eingerichtet ist, eine Position des ersten optischen Elements (206) bezüglich des ersten Sensorteilrahmens (210) zu erfassen, einen zweiten Sensor (218), welcher dazu eingerichtet ist, eine Position des zweiten optischen Elements (208) bezüglich des zweiten Sensorteilrahmens (212) zu erfassen, einen dritten Sensor (220), welcher dazu eingerichtet ist, eine Position des Wafers (124) bezüglich des zweiten Sensorteilrahmens (212) zu erfassen. A lithography system has a projection lens that includes a first optical element and a first sensor subframe. The projection lens also includes first sensor which is configured to detect a position of the first optical element with respect to the first sensor subframe. The projection lens further includes a second sensor which is configured to detect a position of a wafer with respect to the first sensor subframe.