Reflektives optisches Element für den extrem ultravioletten Wellenlängenbereich

Insbesondere zum Einsatz in der EUV-Lithographie wird ein reflektives optisches Element für den extrem ultravioletten Wellenlängenbereich mit einem sich über eine Fläche erstreckenden Viellagensystem auf einem Substrat vorgeschlagen, wobei das Viellagensystem Lagen aus mindestens zwei verschiedenen...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

1. Verfasser:	Kierey, Holger
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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