Reflektives optisches Element für den extrem ultravioletten Wellenlängenbereich

Insbesondere zum Einsatz in der EUV-Lithographie wird ein reflektives optisches Element für den extrem ultravioletten Wellenlängenbereich mit einem sich über eine Fläche erstreckenden Viellagensystem auf einem Substrat vorgeschlagen, wobei das Viellagensystem Lagen aus mindestens zwei verschiedenen...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Kierey, Holger
Format:	Patent
Sprache:	ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Insbesondere zum Einsatz in der EUV-Lithographie wird ein reflektives optisches Element für den extrem ultravioletten Wellenlängenbereich mit einem sich über eine Fläche erstreckenden Viellagensystem auf einem Substrat vorgeschlagen, wobei das Viellagensystem Lagen aus mindestens zwei verschiedenen Materialien mit unterschiedlichem Realteil des Brechungsindex bei einer Wellenlänge im extrem ultravioletten Wellenlängenbereich aufweist, die abwechselnd angeordnet sind, wobei sich bei Bestrahlung unter einem konstanten Einfallswinkel ein Reflektivitätsverlauf mit Halbwertsbreite in Abhängigkeit der Wellenlänge ausbildet, wobei bei einer ersten Wellenlänge eine maximale Reflektivität vorliegt und wobei die Halbwertsbreite des Reflektivitätsverlaufs nicht mehr als 4% der ersten Wellenlänge beträgt. Bevorzugt wird dieses reflektive optische Element in Verbindung mit einem weiteren reflektiven optischen Element verwendet, das in Strahlrichtung dahinter angeordnet ist und eine größere Halbwertsbreite aufweist.